模具拋光的（de）常見方（fāng）法

機械（xiè）拋光

　　機械拋（pāo）光是（shì）靠切削（xuē）、材料表麵塑性變形去掉被拋光（guāng）後（hòu）的凸部而得到平滑麵的拋光方法,一般使用（yòng）油石條、羊毛輪（lún）、砂紙等,以手工操作（zuò）為主,特殊零件如回轉體表麵,可使用轉台等輔（fǔ）助工具,表麵質量 要求高的可采用超（chāo）精研拋（pāo）的方法。超精研拋（pāo）是采用特製的（de）磨具（jù）,在含（hán）有（yǒu）磨料的研拋液中,緊壓在工（gōng）件（jiàn）被加工表（biǎo）麵上,作高速旋轉運動。利用該技術可以達到 Ra0.008μm 的（de）表麵粗糙度,是（shì）各（gè）種拋光方法中最高的（de）。光學鏡片模具常采用這種方（fāng）法。

化學拋光

　　化學拋光是讓材料在化學介質中表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶解,從而得到平（píng）滑麵。這種方法（fǎ）的主要優點是不需（xū）複雜設備,可以拋光形狀複雜（zá）的工件,可（kě）以同時拋光很多工件,效率高。化學拋光（guāng）的核心問題是（shì）拋光液的配（pèi）製。化學拋光得到的表麵粗糙度一般為數 10μm。

電解拋光

　　電解拋光基本原理與化學拋光相同,即靠選擇性的溶解材料（liào）表麵微小凸出部分,使表麵光滑。與化學拋（pāo）光相比,可以消除陰極反（fǎn）應的影（yǐng）響,效果較好。電化學拋光過程分為（wéi）兩步:

　　(1)、宏觀整（zhěng）平 溶（róng）解產物向電解液中擴散（sàn）,材料表麵（miàn）幾（jǐ）何粗糙（cāo）下降,Ra>1μm。

　　(2)、微光平整 陽極極化,表麵光亮度提高,Ra<1μm。

超聲波拋光

　　將工（gōng）件放入（rù）磨料懸浮（fú）液中（zhōng）並一起置於超聲波場中,依靠超聲波的振蕩作用,使磨料（liào）在工件表麵磨削拋（pāo）光。超聲波加工宏觀力（lì）小,不會引起工件變形,但工裝製作和安裝較困難。超（chāo）聲波（bō）加工可以與化學或電化學（xué）方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上,再施加超聲波振動攪拌溶液,使工件表麵溶解產物（wù）脫離,表麵（miàn）附近（jìn）的腐（fǔ）蝕（shí）或（huò）電解質均勻;超聲波在液體中的空化作（zuò）用還（hái）能夠抑製腐蝕過程,利於表麵光亮化。

流體拋光

　　流體（tǐ）拋（pāo）光是依靠高速流動的液體及其攜帶（dài）的磨粒（lì）衝刷工件表麵（miàn）達到拋光的目的（de）。常用方法有:磨料噴射加工、液體噴（pēn）射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅（qū）動,使攜帶磨粒的液（yè）體介質高（gāo）速往複流（liú）過工件表麵。介質主要采用在（zài）較低壓力下流過性好的特殊化合物(聚合物（wù）狀物質)並摻上磨料製成,磨料可采用碳化矽粉（fěn）末。

磁研磨拋（pāo）光

　　磁研磨拋（pāo）光是利用磁性磨（mó）料在磁場作用下形成磨料刷（shuā）,對工件磨削加工。這種方法加工效率（lǜ）高,質量好,加工條件容易控製,工作條件（jiàn）好。采用合適的（de）磨料,表麵（miàn）粗（cū）糙度可以（yǐ）達到Ra0.1μm 。

在塑料模具加工中所說的拋光與其（qí）他行業（yè）中所要求的（de）表麵拋光有很大的不同,嚴格來說,模具的拋光應該（gāi）稱為鏡麵加工。它不僅對拋（pāo）光本（běn）身有很高（gāo）的要求並且對表麵（miàn）平整（zhěng）度、光滑度以及幾（jǐ）何精確度（dù）也有很高的標準。表麵拋光一般隻要求獲得光亮的表麵即可。鏡（jìng）麵（miàn）加工的標準分為四級:AO=Ra0.008μm,A1=Ra0.016μm , A3=Ra0.032μ m ,A4=Ra0.063μm,由於電解拋光、流體拋光等方法很難精確控製零件（jiàn）的幾何精（jīng）確度,而化學拋光、超聲（shēng）波（bō）拋光、磁研磨拋光等方法的表（biǎo）麵質量又達不到要求,所以精（jīng）密模（mó）具的鏡麵加（jiā）工還是以（yǐ）機械拋光為主

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